芯天成光学相近矫正平台EsseOPC
EsseRBOPC
EsseRBAF
EsseMBOPC
EsseVerify
产品简介
芯天成基于规则的国界修正工具EsseRBOPC（RBOPC ，Rule-based Optical Proximity Correction） ，可为种种手艺节点提供稳固、准确和高速的工业级全芯片国界修正解决计划 ，以应对半导体制造工艺中的光学邻近效应、刻蚀效应和良率瓶颈等问题。
该产品基于漫衍式盘算架构和异种使命智能集群手艺、集成高性能统一数据库、高性能几何图形引擎、标签引擎和区域线段化引擎等先进算法 ，能够高速处置惩罚超大规模国界数据 ，为重大几何图形及先进工艺规则提供高精度的解决计划。
焦点优势
支持先进手艺节点天下界签核验证；
制造端EDA共用高速数据底座；
提供AI及GPU加速手艺；
异种使命智能集群的漫衍式构架；
高度可定制化的用户编程接口。
产品功效
基于几何特征的图形选取及操作；
图形特征标签？椋═agging）；
准确的国界线段化？；
快速参数化修正？；
严酷的内置规则检查引擎（MRC）。
应用计划
基于规则的高效光学邻近效应修正；
所有手艺节点的刻蚀效应赔偿；
定制化局部热门区域修正。
产品简介
芯天成基于规则的辅助图形工具EsseRBAF（RBAF ，Rule-based Assist Features） ，能够高效的为工业级全芯片国界开发周全、准确的亚区分率辅助图形 ，使芯片制造在光刻工艺中获得更大的工艺窗口、更稳固的晶圆成像和更优异的产品品质。
亚区分率辅助图形是光学邻近修正在先进手艺节点中的主要组成部分。芯片制造商在芯片国界中专门天生低于光刻系统区分率的辅助图形 ，来资助目的区域在差别工艺条件下拥有优异的光强比照度 ，最终获得切合标准的稳健图形。
焦点优势
制造端EDA共用高速数据底座；
提供AI及GPU加速手艺；
异种使命智能集群的漫衍式构架；
高度可定制化的用户编程接口；
高速辅助图形天生引擎；
支持先进手艺节点天下界签核验证。
产品功效
支持正向 AF(SRAF)和反向 AF(SRIF)；
重大几何情形的 AF 天生；
基于标签（Tagging）手艺的AF天生；
多种自界说优先级的冲突处置惩罚机制。
应用计划
芯片金属层亚区分率散射条；
芯片通孔层亚区分率辅助图形；
定制化亚区分率辅助图形模板；
重大情形的辅助图形嵌入。
产品简介
芯天成基于模子（支持工艺窗口模子）的国界修正工具EsseMBOPC（MBOPC ，Model-based Optical Proximity Correction） ，可为种种手艺节点提供稳固、准确和高速的工业级全芯片国界修正解决计划。EsseMBOPC可导入工艺窗口模子（Process Window Model） ，天生切合制造规则的掩模图形；提升光刻成像质量 ，使光刻图像越发靠近目的图形；并同时提升光刻工艺窗口 ，知足半导体制造的良率要求。该产品基于漫衍式盘算架构和异种使命智能集群手艺、集成高性能统一数据库、高性能几何图形引擎、标签引擎和区域线段化引擎等先进算法 ，能够高速处置惩罚超大规模国界数据 ，为重大几何图形及先进工艺规则提供高精度的解决计划。
焦点优势
支持先进手艺节点天下界签核验证
制造端EDA共用高速数据底座；
提供AI及GPU加速手艺；
异种使命智能集群的漫衍式构架；
高度可定制化的用户编程接口；
产品功效
严酷的内置规则检查引擎（MRC）
基于几何特征的图形选取及操作；
图形特征标签？椋═agging）；
准确的国界线段化？；
可导入模子(支持工艺窗口模子)；
应用计划
基于模子的高效光学邻近效应修正；
所有手艺节点的刻蚀效应赔偿；
定制化局部热门区域修正。
产品简介
芯天成基于模子的验证工具EsseVerify ，可为种种手艺节点提供稳固、准确和高速的工业级全芯片国界OPC效果验证计划。该产品可导入模子和并天生光刻仿真图像；内置的检测器可快速效捕获种种型热门（Hot Spot） ，并有用展望光刻后的工艺窗口（Process Window） ，以验证OPC效果是否切合半导体工艺制造和良率要求。
该产品基于漫衍式盘算架构和异种使命智能集群手艺、集成高性能统一数据库、高性能几何图形引擎、标签引擎和区域线段化引擎等先进算法 ，能够高速处置惩罚超大规模国界数据 ，为重大几何图形及先进工艺规则提供高精度的解决计划。
焦点优势
提供AI及GPU加速手艺；
异种使命智能集群的漫衍式构架；
高度可定制化的用户编程接口；
支持先进手艺节点天下界签核验证。
产品功效
模子导入和光刻图像仿真（simulation）；
内置富厚的检测器 ，可快速捕获多种类型的热门；
光刻工艺窗口展望；
高速数据库 ，支持全芯片规模热门纪录；
热门标记并修复；
应用计划
掩膜图形制造规则检查；
光刻图像成像质量检查；
热门标记和修复；
