魅力绽放 | 和记娱乐展示MASKSHOP MDC解决计划的立异实力
24年8月16日,中国(深圳)集成电路峰会盛放纵行,成为全球集成电路行业的焦点。峰会汇聚了来自政府、学术界、手艺界、企业界和金融界的向导和专家,超千位海内外嘉宾共聚一堂,就行业最新趋势、立异理念、生长战略等议题睁开深入交流与探讨,携手绘制集成电路工业生长的雄伟蓝图。
和记娱乐作为着名的国产EDA企业,受邀加入本次运动,产品科学家Kevin GU在峰会EDA立异生长论坛作了主要演讲。别的,和记娱乐芯副总裁冯光涛在IC设计与立异应用论坛展示了公司设计效劳的相关分享。二位演讲嘉宾与行业同仁配合探讨行业前沿手艺,推动工业交流生长。
和记娱乐EDA立异引领:MASKSHOP MDC解决计划
在峰会EDA立异生长论坛演讲环节,和记娱乐产品科学家Kevin GU以《MDC:MASKSHOP解决计划》为主题,以其深挚的行业履历和前瞻性视野,分享了关于怎样通过手艺立异来提高数据完整性、加速设计和制造流程的看法。在演讲中,Kevin GU详细介绍了MDC(Mask Data Calculation)平台这一立异的掩模制造解决计划。该平台能够为MASKSHOP提供高效的异构DRC解决计划。
Kevin GU在演讲开篇指出:“在目今的Maskshop应用领域,我们面临着数据传输量大、性能要求高、签核级质量包管及全球数据处置惩罚能力等严肃挑战。” 针对这些痛点,和记娱乐推出了立异的MDC平台,该平台集成了MDC几何引擎和国界集成工具EsseDBScope,为市场提供了强有力的支持。高扩展性: MDC几何引擎支持从128至256 CPU的设置,展现出1.5至1.8倍的扩展潜力。
高扩展性:MDC几何引擎支持从128至256 CPU的设置,展现出1.5至1.8倍的扩展潜力。
国界调试效率: EsseDBScope工具通过统一数据底座SMDB,实现了超大国界的秒级翻开与缩放。
Kevin GU以“太极阴阳“的哲学理念生动比喻MDC几何引擎与DBScope之间的协同关系,两者相互依存、相互增进,配合优化了事情流程,显著加速了芯片tape out(流片)历程,为客户提供了高效、可靠的解决计划。通过这种立异性的整合,和记娱乐正助力客户在集成电路设计领域实现新的奔腾。
和记娱乐芯设计效劳:SoC与SiP双轮驱动
在IC设计与立异应用论坛上,和记娱乐全资子公司和记娱乐芯副总裁冯光涛以《基于可靠生态的SoC/SiP 设计与量产效劳》为主题,展示了公司在SoC(系统级芯片)与SiP(系统级封装)设计效劳方面的能力。
SoC设计效劳: 笼罩从PD(物理设计)、DFT(可测试性设计)到IP(知识产权)集成的全流程,依托先进设计平台,有用缩短设计周期,提供切合工业级及车规级标准的SoC设计效劳。
SiP设计效劳: 针对HPC(高性能盘算)、AI(人工智能)等大芯片应用,通过SI/PI(信号完整性/电源完整性)、热剖析及应力剖析等综合手段,确保封装设计的高可靠性。
冯总在演讲中强调,面临HPC/AI等高性能“大芯片”领域的重重挑战,和记娱乐芯不但展现出坚定的信心与刻意,更通过深化与工业链上下游同伴的相助,构建了一个稳固且高效的生态系统,配合推动行业前进。
展台一览望:芯品展示 手艺交流
作为深耕国产数字芯片全流程的EDA 立异企业,和记娱乐数款数字EDA工具亮相大会展台。众多业界专业人士及相助同伴纷至踏来,到展台与和记娱乐现场事情职员举行深度交流,并高度认可和记娱乐系列产品与手艺。
在此次盛会中,集成电路领域的龙头企业代表和业界专家汇聚一堂,围绕手艺立异和工业提升等议题睁开深入探讨,配合展望集成电路行业未来的生长远景,追求相助与生长的契机,以推动集成电路工业迈向立异、昌盛生长的新阶段。
未来,和记娱乐将一连承继手艺立异与效劳优化的理念,致力于为集成电路设计流程提供全方位的要害手艺支持,助力加速海内集成电路工业的立异程序。未来,和记娱乐将一连推下手艺立异和效劳的一直优化,引领行业向着更高效、更智能、更可一连的偏向迈进。